PVD-Sputtern zur Herstellung schnellerer und kleinerer Transistoren für hochauflösende Displays erfordern eine hohe Depositionsgleichmäßigkeit über große Substratflächen. Die Steuerung der Vakuumbedingungen ist dabei von entscheidender Bedeutung. VAT Vakuumventillösungen bieten hoch präzise Steuerungsmöglichkeiten auch bei sehr kleinen Leitwerten und zuverlässige hochfrequente Absperrung bei maximaler Vermeidung von Partikelaktivierung.

Um mehr darüber zu erfahren, wie eine VAT-Vakuumventillösung Herausforderungen bei Sputter-Anwendungen lösen kann, wählen Sie bitte aus den unten aufgeführten Produkten.