高流导谱

65.5 高真空控制摆阀可提供高度可控的流导谱。由于其平稳的打开和关闭运动,粒子数和粒子生成水平极低,这也是其主要特点。

该阀门专为严苛工艺设计,例如半导体生产过程中的腐蚀性刻蚀和清洁应用,在这些应用中,当初始可控流导较低时,需要高度可控的流导谱。

65.5 高真空控制摆阀的 DN 为 250 mm (10"),可将最小流导控制为仅有 2 ls-1。由于 32 位驱动器控制器的数据处理能力出色,可将流导增加控制到非常精细的程度。此外,还可提供更快的驱动,因为相较于等效的 16 位控制器,传感器和控制命令的处理速度更快。控制器上的各种标准端口连接器可通过个人计算机或连接到过程控制单元轻松访问。

钟摆阀板机构采用极其坚固的设计,确保其能够抵抗任 何工艺副产品。为减少密封磨损并避免粒子产生及生成,打开和关闭运动是分开的。通过远离阀座的垂直运动实 现第一级流导,然后通过在水平运动中移动钟摆阀板来 增加流导。由于阀板运动可控性佳,预设的运动顺序可根据工艺要求进行精确调整。为确保密封关闭,通过获得专利的特殊压杆将阀板压在阀座上。这样可确保阀板所有 区域的密封压力均匀分布。

凭借紧凑的设计和直接安装选项以及各种其他设计选项,65.5 系列易于集成到各种真空流程中。


65.5 高真空控制摆阀采用铝或硬质阳极氧化铝,带有 ISO-F 和 JIS 标准法兰连接器。可集成客户指定法兰,也可作为加热器,用于工作温度高达 120℃ 的阀门。

1. 阀门
2. 驱动器轴
3. 双轴驱动器
4. 驱动器馈通密封
5. 闸封


高真空控制摆阀主要特点

特点:

  • 在恶劣工艺环境下提供可靠隔离
  • 低冲击运行,低粒子生成量
  • 工艺惰性 – 极低的残余释气(残余气体分析仪)
  • 运行快速、可调节
  • 设备上压力控制器
  • 可选传感器电源仅需一个电源

优势:

  • 卓越的压力控制性能
  • 运行快速,几乎无粒子
  • 可根据工艺要求进行调整

技术数据
尺寸
  DN 250 (10")
驱动器
 
带有伺服驱动器的集成压力控制器
阀体材料
 
铝或硬质阳极氧化铝
馈通件
 
旋转馈通件
标准法兰
  ISO-F, JIS
泄漏率阀体
硬质阳极氧化铝
< 1 × 10-9 mbar ls-1
< 1 × 10-5 mbar ls-1
泄漏率阀座
硬质阳极氧化铝
< 1 × 10-9 mbar ls-1
< 1 × 10-4 mbar ls-1
压力范围
硬质阳极氧化铝
1 × 10-8 mbar to 1.2 bar (绝对压强)
1 × 10-6 mbar to 1.2 bar (绝对压强)
首次维护前开关次数1)
压力控制
关闭/打开

200万次
5万次

温度
阀体
控制器
≤ 120 °C 
最大 50℃(建议 ≤35℃)
材料
阀体、阀板
EN AW-6061 (3.2311) T651
 
其他部件
AISI 316L (1.4404, 1.4435)
 
阀板上的连接螺钉
SST A4-80、Ni-PTFE、涂层
密封
阀盖、阀板、阀体、馈通件
氟橡胶
安装位置
 
任何位置

 

1) 最大值取决于操作条件和密封材料

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