选定的应用

半导体生产

随着工艺的不断发展和尖端工厂的日益复杂化，半导体制造是一个无限的创新循环。因为比分子还小的颗粒的存在会毁掉一个半导体芯片--并降低产量--真空阀必须在避免颗粒（以避免晶圆损坏）和可靠性方面提供毫不妥协的性能。

• 过程控制和隔离
• 基质转移
• 半导体无尘系统

太阳能电池板生产

太阳能电池组件制造商面临着许多生产方面的挑战：不断增长的基材尺寸、提高产量的同时保持工厂的高可用性和工艺稳定性、降低运营成本。在这种情况下，真空阀的使用，特别是传输阀，也必须通过创新来面对这种情形。

• 太阳能薄膜沉积
• 半导体无尘系统

显示器生产

全球显示器行业受到越来越大推动，包括玻璃基板尺寸、从LCD到OLED技术的转变、更复杂的显示器制造工艺以及现有生产设施的优化。这些动态变化需要高性能的真空阀解决方案，以促进质量和生产率的提高。

• 显示干式蚀刻
• 溅射
• 薄膜封装(CVD)
• OLED蒸发
• 离子植入术
• 化学气相沉积
• OLED喷墨打印
• 半导体无尘系统

照明生产（LED、OLED）

由于LED和越来越多的OLED照明已经发展成为一个大众市场，生产是强烈的成本驱动。因此，高生产质量和高产量也决定了所需真空阀解决方案的发展框架。这里的决定性因素是可靠性、低维护和低运营成本。

• 照明薄膜沉积
• 半导体无尘系统
• 照明蚀刻

半导体无尘系统

半导体无尘工艺可能具有挑战性：腐蚀性、研磨性和有毒气体和/或气流中的冷凝水和高水平的副作用都会严重影响真空阀的功能和可靠性。真空阀的主要功能包括防止回流污染，流速控制和泵隔离。

研究

真空辅助研发应用的范围囊括了从专门的大型研究设施到实验室应用。这些应用都在探索技术上可能达到的极限--提高测量灵敏度和质量。研发应用中使用的真空阀具有更好的可控性，即使在极端条件下也是可靠的、长期稳定的隔离，以及同时避免了惰性的物理特性的任何排放。

• 空间模拟
• 高能物理学

科学仪器

科学仪器的应用范围包括从政府或半政府研究机构定制的大型设施到标准化的高科技仪器，如用于各个领域的质谱仪和电子显微镜。

• 质谱分析与气体分析
• 电子显微镜、计量学、检查和缺陷审查

薄膜涂层

薄膜涂层工艺可以作用于许多不同的工艺，例如，CVD、PVD、MOCVD或PECVD。所有工艺的共同点是都在受控的大气条件下进行，例如在氩气环境和真空下。对真空和气体分布的精确控制对镀膜过程的效率至关重要。VAT阀门技术在这一领域设立了严格标准。

行业

真空应用的数量几乎是无限的。在几乎所有的工业领域，真空应用在解决各种生产和制造任务中发挥着重要作用。 VAT对几乎所有的应用都有合适的解决方案。

• 真空炉
• 真空运输
• 电池生产
• 晶体生长
• 真空干燥

医疗和制药应用

真空，以及真空阀解决方案，对各种医疗领域和设备至关重要。涵盖从可靠的隔离和控制的标准要求到耐高温、无颗粒排放和免于维护的要求。VAT为所有问题提供解决方案。

• 质子治疗
• 正子断层造影(PET)
• 真空灭菌
• 药品冷冻干燥

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